小型臺(tái)式 ALD（原子層沉積）工具專為簡(jiǎn)單的操作和安裝而設(shè)計(jì)，而不會(huì)犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

采用半導(dǎo)體級(jí)元件、金屬密封線和強(qiáng)大的PLC驅(qū)動(dòng)用戶界面，可快速循環(huán)和高品質(zhì)的多組分薄膜，易于維護(hù)，可重復(fù)和安全運(yùn)行。

技術(shù)參數(shù)：

l 占地面積小桌面式ALD系統(tǒng)

l 可容納直徑為 4 /6/8英寸的樣品

l 可定制的卡盤(大型和批處理室(3+芯片)可供選擇)

l 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，帶超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃標(biāo)準(zhǔn)

l 全鋁腔體，溫度范圍可達(dá) 315°C

l 靜態(tài)處理模式下提供高曝光

l 7英寸顯示屏，帶集成PLC控制

選項(xiàng):定制卡盤/壓板，定制異形腔室，真空泵臭氧發(fā)生器(AT-03)，瓶加熱器，通風(fēng)前驅(qū)體外殼，ALD前驅(qū)體集成QCM，手套箱集成，HT套件(前驅(qū)體至180°C)，起泡器，12英寸，需要更大尺寸可咨詢。升級(jí)到等離子體。定制系統(tǒng)。

設(shè)備優(yōu)勢(shì)

Ø 廠家是ALD領(lǐng)域的專家

Ø 高品質(zhì)組件（半導(dǎo)體級(jí)線路、閥門、金屬密封（無水或空氣侵入））

Ø 可信賴（PLC控制-無需驅(qū)動(dòng)程序升級(jí)，無需附加卡）和可靠（非常容易維護(hù)）

Ø 是為實(shí)驗(yàn)室技術(shù)人員設(shè)計(jì)的

Ø 小而緊湊的（不占空間）

Ø 小體積室意味著快速沉積和更少的前驅(qū)體廢物和深入滲透到三維結(jié)構(gòu)

Ø 快速升溫（和降溫）時(shí)間

Ø 化學(xué)物質(zhì)與反應(yīng)物分離，因此不會(huì)沉積在管道，閥門等....

Ø 前驅(qū)體和腔體之間的長(zhǎng)度短（減少線路堵塞的機(jī)會(huì)）

Ø 操作簡(jiǎn)單（150個(gè)菜單連同標(biāo)準(zhǔn)配方）

為啥選擇Anric Technology???

  世界主流的ALD廠家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，這些大廠專注于工業(yè)化的ALD設(shè)備。

Anric Technology： 專注于小的迷你的、臺(tái)式的ALD設(shè)備，操作簡(jiǎn)單，維修經(jīng)濟(jì)方便，特別適用于科研用戶。

研發(fā)者介紹：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 畢業(yè)于Harvard University，Department of Chemistry，導(dǎo)師Prof. Roy Gordon, 在讀博期間就設(shè)計(jì)開發(fā)了幾臺(tái)ALD設(shè)備，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期間進(jìn)行了包括CVD/ALD預(yù)制器的開發(fā)，后出來創(chuàng)辦了Anric Technology，專注于迷你和臺(tái)式用于實(shí)驗(yàn)室研究的ALD。